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靶材
 
 

金太客科技-專業鍍膜靶材的台灣大陸製造公司

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統把電子發射並聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離 材料飛向基片澱積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。
濺射靶材的要求較傳統材料行業高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;
較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。

Cr target 鉻靶材
  • 純度(99.8%, 99.95%)
  • 採用熱等靜壓工藝生產,成分均勻的鍍膜材料
  • 高純度的耐磨,減摩,抗腐蝕和自潤滑的金屬靶材
  • 成分均勻,緻密性高,氣體含量低等優點
  • 顏色光澤度高
  • 可用于製備從淺黑到深黑的普通黑色膜層.銀色膜層、硬質膜層、DLC膜層等
Ti target 鈦靶材
  • 高緻密性
  • 氣體含量低
  • 鍍膜應用中成膜均勻
  • 膜層耐腐蝕耐摩性好
  • 顏色光澤度高
  • 可用於製備裝飾性和功能性(刀具等)的TiN膜層、
  • 仿金色膜層、普通黑色膜層、玫瑰金膜層等
Si target 矽靶材(硅靶材)
  • 經過先進的參雜成形工藝
  • 矽靶材(硅靶材),純度高,電阻低<0.02 Ω
  • 應用獨特Bonding 處理
  • 散熱優良,使用方便避免以濺鍍進行金屬化的高成本及差性能
  • 主要用於平面顯示,觸控式螢幕,防水、防指紋、
  • 提高膜層硬度和光澤度之功效
Nb target 鈮靶材
  • 高純度,高密度
  • 高緻密性鉭靶材
  • 交期週期短.使用方便
  • 主要用於抗酸鹼腐蝕能力強膜層的亮度等
NiCr target 鎳鉻合金靶材Ø
  • 合金比例80%,20%
  • 高純度99.9%
  • 防腐蝕性能強
  • 廣泛應用於工具和裝飾鍍膜, PET薄片
  • 包括金色系列,銀色系列,黑色系列,彩色系列
Ta target 鉭靶材
  • 高純度,高密度
  • 高緻密性
  • 交期週期短.使用方便
Si+Cu target 矽銅組合靶材(硅銅組合靶材)
  • 經過先進的參雜成形工藝
  • 矽靶材(硅靶材),純度高,電阻低<002 ohm
  • 應用獨特Bonding 處理的矽靶
  • 散熱優良,使用方便
多弧鉻矽靶(硅靶)
  • 主要用於裝飾鍍膜,提高膜層硬度和光澤度
  • 主要膜層顏色為黑色,銀色等


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