金太客科技股份有限公司|PVD真空鍍膜設備|玻璃化學強化爐|靶材|抗藍光玻璃保護貼|脈衝清洗機
ターゲット
 
 

スパッタリングの技術が用いられることがある。真空装置の中でアルゴンをプラズマ状態にしてアルゴンイオンに運動量 を与え金属塊に衝突させると、その金属塊の原子が飛び出すスパッタリング現象が発生し、その一部が基板上に堆積する。 これにおいて、アルゴンイオンが衝突する金属塊はターゲットである。
高い技術でスパッタリングターゲットの要件も高くなり、サイズ、平坦度、純度、不純物含有量、密度、N / O / C / S、粒径、 欠陥管理などの一般的な要件ですがより
高い要求または特別な要求は、表面粗さ、抵抗、粒子サイズの均一性、組成および 組織の均一性、酸化物含有量およびサイズ、透磁率、超高密度および超微粒子を含む。

Cr target Chromeターゲット
  • 純度(99.8%, 99.95%)
  • 熱間等静圧圧縮成形によって製造された均一な材料
  • 高純度、耐摩耗性、低摩擦性、耐食性および自己潤滑性の金属ターゲット
  • 均一な組成、高密度、低ガス含有量など
  • 高色光沢
  • 薄い黒から濃い黒までの普通の黒いフィルム層,硬質皮膜層 DLC皮膜層などに採用する
Ti target チタンターゲット
  • 高密度
  • 低ガス含有量
  • 均一な膜
  • 耐腐食性および耐摩耗性もよい
  • 高色光沢
  • 装飾的または機能的なTiNフィルム層を作る
  • 金フィルム、通常の黒色フィルム、ローズゴールドフィルム層などローズゴールドフィルム層など
Si target Siターゲット
  • 高度な混合プロセス
  • 高純度,低抵抗<0.02Ω
  • 特製のボンディング接合加工を施す
  • 優れた放熱性と使用便利
  • ディスプレイ、タッチスクリーン、AS/AFに主に使用
  • フィルムの硬度と光沢を向上
Nb target Nbターゲット
  • 高純度,高密度
  • 耐酸性、耐アルカリ腐食性などに主に使用される
  • 光沢を向上
  • 短納期で使用便利
NiCr target NiCrターゲット
  • 合金比率80%、20%
  • 高純度99.9%
  • 耐腐食性強い
  • 用具および装飾的なコーティングで広く利用、PETシートにも
  • ゴールド系、シルバー系、ブラック系、カラー系に利用可能
Ta target Taターゲット
  • 高純度,高密度
  • 短納期で使用便利
Si+Cu target Si Cu複合ターゲット
  • 高度な混合プロセス
  • 高純度,低抵抗<0.02Ω
  • 特製のボンディング接合加工を施す
  • 優れた放熱性と使用便利
マルチアーククロムターゲット
  • 主にフィルムの硬度と光沢を向上させるために
  • 装飾コーティングに使用
  • 主なフィルムの色は黒、銀などです


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